除了原型開發(fā)應(yīng)用外，還可以集成到在線系統(tǒng)新型N2、H2 和甲酸，可兼容高達(dá) 2000 hPa (= 0.2 MPa) 的過壓 兼容真空回流退火工藝和 LTO 燒結(jié)！                                          

加熱區(qū)上下設(shè)有IR（紅外線）型加熱器，最高溫度可達(dá)1000℃，并可高速升溫40K/秒。采用氮?dú)獯祾叻绞降睦鋮s方式，實(shí)現(xiàn)高達(dá)200K/min的降溫。
觸摸屏用于輪廓程序控制。
除了創(chuàng)建溫度控制、氣體流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您還可以保存過程數(shù)據(jù)。采用硅晶圓鍵合的玻璃上硅太陽能電池。
它可以加熱最大300x300mm或Φ300mm的物體。

• 這是一款真空工藝快速加熱爐，盡管其桌面尺寸，最高溫度可達(dá)1000℃ （可選配可達(dá)1200℃） 。

• 兼容氮?dú)獯祾摺⒀鯕獯祾摺⒑铣蓺猓錃?氮?dú)猓┐祾叩取?/span>

• 由于工作區(qū)域是氣體保護(hù)的，因此可用于存在污染問題的工藝或其他關(guān)鍵工藝。

• 加熱由頂部和底部的 36 個(gè) IR（紅外線）加熱器進(jìn)行，可實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、快速的加熱。

• 與適當(dāng)?shù)恼婵毡媒M合，可實(shí)現(xiàn)高達(dá)0.1Pa（10-3hPa）的真空環(huán)境。

• 兼容氮?dú)獯祾叻ǖ臏囟认陆?/span>

• 標(biāo)準(zhǔn)配備觸摸屏顯示器。通過觸摸操作輕松操作

• 主機(jī)上最多可注冊(cè)50個(gè)50段（行）的溫度控制程序。

最多可以安裝4個(gè)MFC（質(zhì)量流量控制器）系統(tǒng)，因此除了真空或大氣環(huán)境之外，還可以在任何工藝氣體吹掃環(huán)境中進(jìn)行退火。不僅可以在配置文件程序中注冊(cè)各種氣體系統(tǒng)的開/關(guān)控制，還可以注冊(cè)其流量，從而可以輕松再現(xiàn)各種環(huán)境。配備高速紅外線（IR）加熱器，最高可升溫至每分鐘2400℃以上（每秒40℃以上）。當(dāng)然，也可以以輪廓程序指定的任何速率升高溫度。另外，在降溫過程中，通過向腔室中供應(yīng)冷卻氮?dú)猓梢园踩剡M(jìn)行冷卻，而不會(huì)損壞處理后的器件表面。標(biāo)準(zhǔn)配備設(shè)備外殼冷卻裝置。最高溫度可達(dá) 1000℃（可選最高 1200℃），確保安全。因此，它不僅可以輕松應(yīng)對(duì) SiAu、SiAl 和 SiMo 等退火工藝，還可以輕松應(yīng)對(duì)糊料材料等燒結(jié)工藝。